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Patentgesetz (PatG), Gebrauchsmustergesetz: PatG, GebrMG, Kommentar

Produktbild
Autor:
Peter Mes
Verfügbarkeit:
nur noch 3 lieferbar
Veröffentlicht am:
02.03.2015
Artikelnummer:
54328
SFr. 202,00
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  • Produktbeschreibung

    Patentgesetz (PatG), Gebrauchsmustergesetz: PatG, GebrMG, Kommentar

    Zum Werk§Das Patentgesetz und das Gebrauchsmustergesetz stehen im Mittelpunkt des Gewerblichen Rechtsschutzes und sind von großer Bedeutung für alle Patentanwälte, mit Patentstreitigkeiten befassten Rechtsanwälte sowie Unternehmen, die ihre Erfindungen schützen wollen oder gegen Schutzanmaßungen Dritter vorgehen müssen.§Der Praxiskommentar verbindet das Patentrecht mit dem eng verwandten Gebrauchsmusterrecht. Vorrangiger Bezugspunkt der Erläuterungen ist die Rechtsprechung sowohl der Instanzgerichte, des BPatG und des BGH als auch der Beschwerdekammern des Deutschen Patent- und Markenamtes und des Europäischen Patentamts. Eine Stärke des Kommentars ist, dass auch das Marken- und Geschmacksmusterrecht, das Recht des unlauteren Wettbewerbs und das Urheberrecht in die Erläuterungen einbezogen sind.§Vorteile auf einen Blick§- prägnant und praxisorientiert§- rechtsprechungsorientiert§- wichtige Nebenvorschriften im Textanhang§Zielgruppe§Für Rechts- und Patentanwälte, Unternehmen, Gerichte, Referendare, Assessoren und sonstige Auszubildende in Rechts- und Patentanwaltskanzleien sowie in Behörden.

  • Zusatzinformation

    Autor
    Verlag
    Beck Juristischer Verlag
    ISBN / EAN
    9783406676444

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